第四百八十六章 要不要一起看简单场景的电影？

                实验室，许青舟没参与卡森等人的闲聊，注意力集中在参数面板上。



    Cvd生长，在har（流量比1:10）气氛中升温至1050°C，通入Ch（10 sccm）生长，接下来就是长达4个小时的等待。



    搞定完第一步，许青舟留守实验室，卡森三个人去吃饭，没多久，实验室中仅仅剩下设备运行时的低沉声音。



    他仔细检查完设备运行情况，转身去隔壁的办公室，打开电脑，看Cvd生长的情况。



    见数据什么都没问题，他从包里掏出nbsn薄膜制备的资料。



    实验过程中会遇到两个大问题，界面应力与成分控制难题，这在一定程度上决定了薄膜能达到的性能。



    对于前者，许青舟以前用过的一种方式，低温ALd和梯度退火，想办法减少热膨胀系数。



    虽然当时是用在硅基量子点的设计上，但万变不离其宗，试试再说。



    成分控制难题相对麻烦。



    需要进行大量调整，例如进行前驱体优化，替换样品，或者等离子体参数优化等等，目前也只能先做准备，一切都只有等第一轮实验数据出来了再调整。



    下午3点，许青舟和卡森再度进入实验室。



    冷却至300°C后旋涂pmmA保护层。



    最后，转移到电化学剥离铜箔，捞取石墨烯至siosi衬底，丙酮去除pmmA。



    这个步骤大约2小时。



    留卡森检查设备，许青舟回办公室，打算再查查其他课题组的进度。



    做前沿实验的课题组会像“侦探”一样关注对手动态，这在一定程度上可以加速科学突破，有竞争才会有压力嘛。



    当然，也可能会道心崩溃。



    就比如曾经在普林斯顿，许青舟某天正在实验室跑数据呢，突然听到楼道里一阵大喊大叫。



    走出一看，一位老哥哭得那叫一个凄惨。



    后来才知道，这位老哥准备做两个创新点，干了几个月，第一个创新点被其他课题组nature见刊。



    老哥立刻换了第二个创新点，可干一个月左右才发现，又被science见刊了。



    于是，两次冲击下，绷不住了。



    当然，搞科研嘛，其实就算小撞，稍微修一下也能发表。