第1035章 弯道超车(第3页)

 这里需要说一下三星。

 2005年，三星才踏入晶圆代工行业。

 跟台积电的市场定位不同，三星代工的产品主要面向高端芯片产品。

 但代工行业大局已定，三星很难有什么作为。

 这个时候的台积电已经在技术上赢得了两场硬仗。

 铜互联和浸润式光刻。

 成了代工行业的霸主。

 1997年，ib公开了铜互连技术。

 与铝相比，铜线导电电阻低大约40%，这在技术行业中投下了一颗重磅炸弹。

 2000年，台积电在130n铜制程之战中，先于ib一年研发出了当时最先进的130纳米芯片并实现量产，技术负责人梁孟松凭借此役一战成名。

 台积电首战告捷，如果说铜互连还是比拼量产能力，那么浸润光刻则完全就是台积电的引领创新。

 2002年，全球芯片产业进入发展瓶颈期，摩尔定律也因此止步不前。

 台积电林本坚受邀到美国参加一场的研讨会，本来大会邀请林本坚是去讨论157纳米工艺的。

 结果林本坚直接抛出了‘运用水作为193纳米浸润式的介质，可以超过干式的157纳米’的论点。

 众人恍然大悟。

 原来还能这么玩？

 一瞬间，仿佛被打通了任督二脉。

 高中生都知道，水会改变光的折射率。

 在透镜和硅片之间加一层水，原有的193n激光经过折射，不就直接越过了157n的天堑，降低到132n了吗。

 疑问随之而来？

 水会不会产生气泡？

 水会不会污染设备？

 是不是要做防水？

 水遇热会膨胀，折射率会改变，如何解决？

 问题的提出者就变成问题的解决者。

 林本坚提出的浸润式光刻技术在台积电高层张忠谋、蒋尚义的大力支持下，开始放手一博。

 技术之神眷顾了台积电，台积电成功了。

 与台积电同进退的AsL也成功了。

 而转型慢的尼康却掉队了。

 2006年，张忠谋已经75岁，老张委任蔡力行任ceo，自己只任董事长，开始了退休的计划，蔡力行成为了台积电的接班人。

 蔡力行无疑是非常合适的人选，当时蔡力行在台积电工作20年，从厂长做起，是张忠谋一手训练出来的左膀右臂。

 2008年9月14日，雷曼兄弟提出破产申请，同一时间房利美、房地美被政府接管，全球金融危机正式爆发。

 当时江湖戏言。

 美国救‘二房’，而没有救‘兄弟’。可见二房地位远高于兄弟。

 金融危机对经济的破坏和摧残是全球性的、也是全产业链的，半导体产业未能幸免，台积电也未能幸免。

 2009年第一季度，台积电业绩大幅度萎缩，濒临亏损。

 危急时刻，ceo蔡力行采取了常规的收缩战术，节流、裁人。

 由于裁员太多、太猛，引发台积电部分员工和家属的激烈反弹，有员工家属给张忠谋写陈情信，还有人堵在张忠谋的住处外当面求情。

 面对危机。

 老张亲自披挂上阵，以78岁高龄，再次担任台积电ceo。